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1、鍍層厚度的測(cè)試方法有哪些？

鍍層是指為了好看或儲(chǔ)藏而涂在某些物品上的金屬表面涂上一層塑料，或者一層稀薄的金屬或?yàn)榉略炷撤N貴重金屬，在普通金屬的表面鍍上這種貴重金屬的薄層。復(fù)合鍍層的制備是在鍍液中加入一種或數(shù)種不溶性固體顆粒,使固體顆粒與金屬離子共沉積的過程,它實(shí)際上是一種金屬基復(fù)合材料。

鍍層厚度測(cè)試檢測(cè)材料表面的金屬和氧化物覆層的厚度測(cè)試。鍍層厚度的測(cè)試方法主要有金相法、X射線熒光法和掃描電鏡測(cè)試法等。

2、鍍層厚度的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)有哪些？

GB/T 6462-2005金屬和氧化物覆蓋層 厚度測(cè)量 顯微鏡法

GB/T 16921-2005金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 X射線光譜法

ASTM B487-85(2013) 用橫斷面顯微觀察法測(cè)定金屬及氧化層厚度的試驗(yàn)方法

ASTM B568-98（2014）用X射線光譜法測(cè)量涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM A754/A754M-18用X射線熒光法測(cè)定金屬涂層在鋼上的重量(質(zhì)量)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM B748-90(2016)用掃描電鏡測(cè)量金屬鍍層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ISO 1463-2003金屬和氧化物覆蓋層 覆蓋層厚度的測(cè)定 顯微鏡法

ISO 3497-2000 金屬覆蓋層 鍍層厚度的測(cè)量 X射線光譜法

DIN EN ISO 3497-2001金屬鍍層 鍍層厚度測(cè)量 X射線光譜測(cè)定法

JIS H8501-1999金屬覆層厚度試驗(yàn)方法

AS 2331.1.1-2001金屬及相關(guān)涂層的試驗(yàn)方法 局部厚度試驗(yàn) 橫截面顯微照相檢驗(yàn)

3、鍍層厚度的測(cè)試要點(diǎn)總結(jié)

（1）GB/T 6462-2005金屬和氧化物覆蓋層 厚度測(cè)量 顯微鏡法

適用范圍：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了運(yùn)用光學(xué)顯微鏡檢測(cè)橫斷面，以測(cè)量金屬覆蓋層、氧化膜層和釉瓷或玻璃搪瓷覆蓋層的局部厚度的方法。

試驗(yàn)原理：從待測(cè)件上切割一塊試樣，鑲嵌后，采用適當(dāng)?shù)募夹g(shù)對(duì)橫截面進(jìn)行研磨、拋光和浸蝕。用校正過的標(biāo)尺測(cè)量覆蓋層橫斷面的厚度。

影響測(cè)量不確定度的因素有：表面粗糙度、橫斷面的斜度、覆蓋層變形、覆蓋層邊緣倒角、附加鍍層、浸蝕、遮蓋、放大率、載物臺(tái)測(cè)微計(jì)的校正、測(cè)微計(jì)目鏡的校正、對(duì)位、放大率的一致性、透鏡的質(zhì)量、目鏡的方位、鏡筒的長(zhǎng)度

橫斷面的制備：a）橫斷面垂直于覆蓋層；b）橫斷面表面平整，其圖像的整個(gè)寬度應(yīng)在測(cè)量時(shí)所取的放大率下同時(shí)聚焦；c）由于切割和制備橫斷面所引起的變形材質(zhì)要去掉；d）覆蓋層橫斷面上的界面線僅由外觀反差就能明顯地確定或由一條易于分辨的細(xì)線確定。

測(cè)量：1）注意各影響因素；2）校準(zhǔn)顯微鏡及測(cè)量裝置；3）測(cè)量覆蓋層橫斷面圖像寬度時(shí)，沿顯微斷面長(zhǎng)度至少去五點(diǎn)測(cè)量

測(cè)試結(jié)果說明：1）所取橫斷面上待測(cè)試樣上的位置；2）每點(diǎn)測(cè)量得厚度，以微米計(jì)；橫斷面上測(cè)量點(diǎn)分布的長(zhǎng)度；3）局部厚度，即厚度測(cè)量值的算術(shù)平均值

（2）GB/T 16921-2005金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 X射線光譜法

適用范圍：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用X射線光譜方法測(cè)量金屬覆蓋層厚度的方法。本標(biāo)準(zhǔn)所用的測(cè)量方法基本屬于測(cè)定單位面積質(zhì)量的一種方法。如果已知覆蓋層材料的密度，則測(cè)量結(jié)果也可用覆蓋層的線性厚度表示。本測(cè)量方法可同時(shí)測(cè)量三層覆蓋層體系，或同時(shí)測(cè)量三層組分的厚度和成分。給定覆蓋層材料的實(shí)際測(cè)量范圍主要取決于被分析的特征X射線熒光的能量以及所允許的測(cè)量不確定度，而且因所用儀器設(shè)備和操作規(guī)程而不同。

試驗(yàn)操作機(jī)理：覆蓋層單位面積質(zhì)量(若密度已知，則為覆蓋層線性厚度)和二次輻射強(qiáng)度之間存在一定的關(guān)系。對(duì)于任何實(shí)際的儀器系統(tǒng)，該關(guān)系首先由已知單位面積質(zhì)量的覆蓋層校正標(biāo)準(zhǔn)塊校正確定。若覆蓋層材料的密度已知，同時(shí)又給出實(shí)際的密度，則這樣的標(biāo)準(zhǔn)塊就能給出覆蓋層線性厚度。熒光強(qiáng)度是元素原子序數(shù)的函數(shù)，如果表面覆蓋層、中間覆蓋層(如果存在)以及基體是由不同元素組成或一個(gè)覆蓋層由不止一個(gè)無素組成，則這些元素會(huì)產(chǎn)生各自的輻射特征。可調(diào)節(jié)適當(dāng)?shù)臋z測(cè)器系統(tǒng)以選擇一個(gè)或多個(gè)能帶，使此設(shè)備既能測(cè)量表面覆蓋層又能同時(shí)測(cè)量表面覆蓋層和一些中間覆蓋層的厚度和組成。

厚度測(cè)量：1）發(fā)射方法：若測(cè)量覆蓋層的特征輻射強(qiáng)度，則在達(dá)到飽和厚度前，此強(qiáng)度將隨厚度的增加面增加，見圖1a)。使用X射線發(fā)射方法時(shí)，將儀器調(diào)到接收選定的覆蓋層材料的特征能量帶，這樣，薄覆蓋層產(chǎn)生低強(qiáng)度而厚覆蓋層產(chǎn)生高強(qiáng)度。2）吸收方法：若測(cè)能基體的特征輻射強(qiáng)度，則此強(qiáng)度隨厚度增加而減小，見圖1b)。X射線吸收方法利用基體材料的特征能帶。這樣，薄覆蓋層產(chǎn)生高強(qiáng)度而厚覆蓋層產(chǎn)生低強(qiáng)度。在實(shí)際運(yùn)用時(shí)，要注意確保不存在中間層。吸收特怔與發(fā)射特征反向相似。3）比率方法，當(dāng)覆蓋層厚度用基體和覆蓋材料各自的強(qiáng)度比表示時(shí)，則可能使X射線吸收方法和發(fā)射方法結(jié)合。這種強(qiáng)度比率方法的測(cè)量基本同試樣和檢測(cè)器之間的距離無關(guān)。

影響結(jié)果的因素有：計(jì)數(shù)統(tǒng)計(jì)、校正標(biāo)準(zhǔn)塊、覆蓋層厚度、測(cè)量面尺寸、覆蓋層組成、覆蓋層密度、基體成分、基體厚度、表面清潔度、中間覆蓋層、試樣曲率、激發(fā)能量和激發(fā)強(qiáng)度、檢測(cè)器、輻射程、計(jì)數(shù)率轉(zhuǎn)換為單位面積質(zhì)量或厚度、試樣表面的傾斜度

試驗(yàn)結(jié)果表示：強(qiáng)度值（計(jì)數(shù)率）向單位面積質(zhì)量或厚度的轉(zhuǎn)換。使用適當(dāng)?shù)男?zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)繪制類似于圖1的曲線。除非另有規(guī)定，單位面積質(zhì)量的結(jié)果用mg/cm²表示，厚度測(cè)量結(jié)果用μm表示。

（3）ASTM B748-90(2016)用掃描電鏡測(cè)量金屬鍍層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

主要事項(xiàng)：1）可切取橫斷面；2）鍍層、基材顏色有區(qū)別才適用此方法；3）盡量考慮2um以上的鍍層測(cè)試